產品介紹
NEMST-Waterfall2008III series
射頻 瀑布式常壓電漿清洗機
- DBD電極設計：電漿密度高
- 屬直接式電漿、單電極氣冷設計
- 反應氣體使用氬氣（Ar）
- 電極幅寬可依據客戶需求訂製
- 電極擴充性高，處理速度快
- 樣品離電極的距離約為1~ 4 mm
- 可適用各種片材、薄膜材料
- 可單機或線上模組化
- 產品單面處理
- 電極距離產品之距離可拉高至4~5 mm
- 反應氣體使用氬氣（Ar），流量小
- 電極有效幅寬100 mm~1000 mm(客製化，寬度可以再加大)
- 一般可處理的速度為0.5至5 m/min (依製程需求，可進一步討論)
- 可適用各種片材、薄膜材料
- 電漿穩定性、均勻度高
- 電路板與載板技術： 各式 PCB 表面清潔與改質（活化及粗糙度改善）、適用鍍金/鍍銅或出貨前處理、FCCL
- 顯示器與玻璃工藝： 素玻璃及 ITO 玻璃基板清潔改質（如改善親水性）、TP 製程 LCD 或 Sensor 清潔、玻璃工業
- 光學與濾光片製程： CF 製程 Panel 清潔應用（上 BM 及 RGB 光阻前）、取代傳統 UV-Ozone 以節省成本並提高效率
- 通用材料與薄膜應用： 各式電子/非電子元件與材料之表面清潔改質（如 PI、PET、PE、塑膠等）、薄膜工業、成長薄膜應用